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勻膠旋涂機的工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。勻膠旋涂機機身采用全工程塑料制作，...

Harrick等離子清洗機采用電感耦合高密度等離子體(ICP)，能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠)，達到晶圓表面潔凈，Harrick等離子清洗機具有蝕刻率高，無電極污染，離子能量低，不損傷基板等優(yōu)點。Harrick等離子清洗機的結(jié)構(gòu)組成，...

勻膠旋涂機工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠旋涂機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。可以設(shè)定多達20個程序段來存儲不...

微波等離子去膠機概述：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計算機全自動控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理...

PDC-002等離子清洗機是一種小型化、超清洗設(shè)備。該款等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。這款等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體...

等離子清洗機分大氣壓的和真空的兩大類，大氣的又分為帶狀等離子清洗機和電暈機兩種，真空等離子清洗機在加入腐蝕性氣體后，具備蝕刻能力，通常蝕刻膠水和電氣走線，應(yīng)用在PCB及芯片行業(yè)。等離子清洗機是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗...

擴展型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清...

等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度...

等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，能夠有效地避免液體清洗介質(zhì)對清洗物產(chǎn)生的二次污染。外接的真空泵，清洗腔中等離子體沖刷被洗物的表面，短時間就能夠?qū)⒂袡C污染物*清洗掉，于此同時，污染物還被真空泵抽走，這樣就達到了清洗的目的。在特定的環(huán)境中，可...