您的位置：網(wǎng)站首頁 > 新聞資訊 相比傳統(tǒng)的人工檢查方式，自動化表面缺陷檢測系統(tǒng)不受主觀因素影響且不會因疲勞而降低工作效率。它能夠快速準(zhǔn)確地捕捉并判斷細(xì)微的缺陷，提升了產(chǎn)品檢測的速度和質(zhì)量，有效減少漏檢率，降低有缺陷的產(chǎn)品流入市場的風(fēng)險。機(jī)器視覺系統(tǒng)無需休息，可持續(xù)不間斷地...
薄膜厚度測量儀能夠達(dá)到較高的分辨率，如某些設(shè)備的分辨率可達(dá)0.1，偏差小，可以滿足對薄膜厚度準(zhǔn)確控制的需求，確保產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和一致性。采用非接觸式測量方式，與被測物料之間不需要接觸，不會對被測物料造成任何損壞。同時，避免了因接觸產(chǎn)生的壓...
薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)主要基于多種物理原理來實現(xiàn)對薄膜應(yīng)力的準(zhǔn)確測定，其中常見的為機(jī)械法與光學(xué)法。(一)機(jī)械法原理機(jī)械法借助對薄膜附著基底的形變測量來反推薄膜應(yīng)力。當(dāng)薄膜沉積在基底表面時，由于薄膜應(yīng)力的存在，會使基底產(chǎn)生微小的彎曲變形。以圓盤形基...
Tergeo等離子清洗機(jī)是在真空的腔體里，通過射頻(RF)電源在一定的壓力情況下產(chǎn)生高能量的無序等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，以達(dá)到清洗目的的一種設(shè)備。其工作原理主要基于等離子體的物理和化學(xué)特性，具體過程如下：1.等離子體的產(chǎn)生...
微波去膠機(jī)主要利用微波能量激發(fā)等離子體，使氣體分子電離產(chǎn)生大量高能活性粒子。這些活性粒子與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，將光刻膠分解為揮發(fā)性物質(zhì)，從而達(dá)到去除光刻膠的目的。例如，在氧氣環(huán)境中，微波激發(fā)產(chǎn)生的氧離子等活性粒子能與光刻膠中的有機(jī)成分反應(yīng)，...
PIETergeo-pro等離子清洗機(jī)成功安裝案例：助力山東高等研究院科研升級近日，我公司銷售的美國PIE公司的Tergeo-pro等離子清洗機(jī)在山東高等研究院完成了成功安裝與調(diào)試，標(biāo)志著雙方在科研設(shè)備領(lǐng)域的合作邁出了堅實一步。此次設(shè)備的順...
旋涂顯影系統(tǒng)是半導(dǎo)體制造、微電子加工以及光學(xué)器件制備等領(lǐng)域中至關(guān)重要的工藝設(shè)備之一。它主要通過高速旋轉(zhuǎn)的方式，將液態(tài)的光刻膠均勻地涂覆在硅片等基底表面，隨后經(jīng)過顯影等后續(xù)處理，形成所需的圖案，為后續(xù)的蝕刻、摻雜等工藝步驟奠定基礎(chǔ)。旋涂顯影系...
薄膜沉積系統(tǒng)的核心功能模塊通常包括真空腔體、氣源供應(yīng)系統(tǒng)、能量輸入裝置及過程控制系統(tǒng)。真空腔體作為反應(yīng)環(huán)境載體，需維持特定壓力范圍以調(diào)控氣相分子的平均自由程，從而優(yōu)化薄膜生長動力學(xué)。氣源供應(yīng)系統(tǒng)通過精確配比不同氣體組分，實現(xiàn)薄膜化學(xué)成分的靈...
等離子刻蝕ICP技術(shù)以其高精度、高效率和高選擇性在微納加工領(lǐng)域中發(fā)揮著重要作用。通過了解其原理、應(yīng)用及設(shè)備選擇和操作方法，可以更好地利用這一技術(shù)進(jìn)行微電子器件、生物芯片和納米結(jié)構(gòu)的制備。等離子刻蝕ICP設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)方法涉及多個方面：1.儀...
在納米科技和半導(dǎo)體工業(yè)的浪潮中，勻膠旋涂儀以其特殊的魅力，成為了材料制備和薄膜沉積過程中不可少的工具。這種設(shè)備通過高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力將液體均勻地鋪展在基片表面，形成一層厚度可控、均勻性好的薄膜。這一過程不僅體現(xiàn)了物理學(xué)中離心力的巧妙應(yīng)...
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