您的位置:網(wǎng)站首頁 > 技術(shù)文章 P-7探針式輪廓儀是一種高精度的表面形貌測量設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、數(shù)據(jù)存儲、MEMS、太陽能、光電子等領(lǐng)域。其基本工作原理可以概括為以下幾點:1.接觸式測量:采用物理探針接觸樣品表面的方式進行測量。探針通常為金剛石材質(zhì),曲率半徑在50nm...
iMicro納米壓痕儀采用特定幾何形狀的金剛石壓頭,以載荷準靜態(tài)壓入材料表面。這種設(shè)計確保了壓入過程的穩(wěn)定性和準確性,能夠適應(yīng)不同硬度的材料測試需求,在壓入過程中,儀器實時記錄加載-卸載過程中的載荷與壓入深度變化,生成詳細的載荷-位移曲線。...
表面缺陷檢測系統(tǒng)是利用高分辨率相機(包括線掃或面掃類型)作為核心“眼睛”,配合精密光源如LED、激光等進行照明。通過明場、暗場、同軸光、結(jié)構(gòu)光等方式增強被測物體表面的對比度,使各類瑕疵特征更清晰地呈現(xiàn)出來。這些光源會根據(jù)不同的材質(zhì)和缺陷特點...
薄膜厚度測量儀廣泛應(yīng)用于制造業(yè)、科研機構(gòu)以及質(zhì)檢部門等。在半導(dǎo)體制造、光學涂層、包裝印刷、電子顯示等行業(yè)都有重要應(yīng)用,對于保證產(chǎn)品的質(zhì)量和性能起著關(guān)鍵作用。能夠在短時間內(nèi)完成測量過程,提高生產(chǎn)效率和工作效率,尤其適用于大規(guī)模生產(chǎn)和在線檢測的...
薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)較高的測量精度,可準確到兆帕(MPa)甚至更高量級。無論是微弱的拉應(yīng)力還是壓應(yīng)力,都能準確捕捉。這得益于傳感器技術(shù)與精密的算法處理,如高精度的位移傳感器能分辨出微小的基底形變,光學干涉儀可準確感知光程差的細微變化,從...
Tergeo等離子清洗機可以對多種材料進行清洗,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等。無論是柔軟的聚合物材料還是堅硬的金屬材料,等離子體都可以根據(jù)其表面特性進行調(diào)整清洗參數(shù),以達到良好的清洗效果。例如,對于一些具有復(fù)雜形狀的醫(yī)療器械,如內(nèi)窺鏡等,等...
微波去膠機,特別是微波等離子去膠機,在半導(dǎo)體加工、薄膜工藝等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,根據(jù)不同的光刻膠類型、基底材料和工藝要求,準確調(diào)整微波功率、真空度、氣體流量等參數(shù),以確保去膠效果和基底不受損傷;微波具有一定的輻射危害,操作人員需采取相應(yīng)的防護措施...
在實際的工藝操作中,旋涂顯影系統(tǒng)的操作流程嚴謹且規(guī)范,將經(jīng)過預(yù)處理的硅片放置在旋轉(zhuǎn)臺上,并通過真空吸附或其他固定裝置確保硅片在旋轉(zhuǎn)過程中不會發(fā)生位移或晃動。然后,根據(jù)工藝要求選擇合適的光刻膠,并利用膠液分配裝置將光刻膠施加到硅片表面。接著,...
薄膜沉積系統(tǒng)作為現(xiàn)代材料科學與微納加工技術(shù)領(lǐng)域中的核心設(shè)備之一,其發(fā)展與應(yīng)用深刻影響著半導(dǎo)體制造、光學鍍膜、能源材料開發(fā)以及生物醫(yī)學工程等多個前沿領(lǐng)域。該系統(tǒng)通過精確控制原子或分子在基底表面的沉積過程,形成具有特定功能特性的薄膜結(jié)構(gòu),為器件...
太陽能電池大多由單晶硅或多晶硅制成,將晶硅錠加工成太陽能電池需要一系列制造工藝,包括晶圓切割、制絨、酸洗、擴散、刻蝕、減反膜沉積、激光開槽、接觸印刷等。下圖為工藝流程中的測量節(jié)點。太陽能電池工藝流程中的量測節(jié)點,包括金剛石切割線的表面形貌、...