靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速...
基本型等離子清洗機已應用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機及其清洗技術，就沒有今日這么發達的電子、資訊和通訊產業。此外，等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業、機械與航天工業、高分子工業、污染防治工業和量測工業上，而且是產品...
AT-400原子層沉積是指通過將氣相前驅體交替脈沖通入反應室并在沉積基體表面發生氣固相化學吸附反應形成薄膜的一種方法原子層沉積過程由A、B兩個半反應分四個基元步驟進行：1）前驅體A脈沖吸附反應；2）惰氣吹掃多余的反應物及副產物；3）前驅體B...
微波等離子去膠機具有操作簡單、效過好、無損傷、無劃痕、無殘留物、表面干凈光沾、無須干燥處理的特點。能夠去除較難處理的SU-8光刻膠或經列體面改性的長部能工作氣體可以采用氧氣和氫氣的混合物。利用象您氣體與5一8光到膠的化學反應能夠快速將其去除...
勻膠旋涂機設備，包括弧形板，儲膠區，導流板，支撐柱和固定板，弧形板的弧度與使用的上膠輥外壁相同，弧形板的一側設置有儲膠區，與其對應的另一側設置有導流區，弧形板頂部中心設置有兩個相同的支撐柱，任意支撐柱頂部設置有螺母，任意支撐柱和螺母之間設置...
德國UniTemp公司生產的RSS-160回流焊爐在中國科學院深圳先進技術研究院深圳先進電子材料國際創新研究院順利安裝成功，通過了學校組織的驗收，得到使用者的認可，正式投入科研工作。UniTemp真空回流焊的應用Byung-GilJeong...
低溫探針臺用來無損檢測樣品的電性能，用于半導體、微電子、固體物理、納米、超導等研究冷域，是研究材料的電阻率、磁電阻等各種物理特性的有力工具。經濟高效，穩定，可靠，方便的改善在極低的真空和溫度下對器件和電路的探測。內置振動隔離，智能熱管理，使...
光學接觸角測量儀是一種簡單、快速、靈敏的方法測量固體表面的潤濕性。且可間接測量固體表面能與液體表面張力。為手動進液、手動滾動角分析型,配置標準為手動型進液系統、標準配置滾動角旋轉平臺、工業級輪廓鏡頭、優化的石英玻璃柔光背景光源以及專業級的C...
微波等離子去膠機采用高密度2.45GHZ微波等離子技術，用于半導體生產中晶圓的清潔、去膠和等離子體預處理，微波等離子體清洗、去膠機具有高度活性、高效，且不會對電子裝置產生離子損害。它是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微...
勻膠旋涂儀的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。其適應于半導體、化工材料、硅片、晶...
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